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膜片钳系统

抛光仪 煅针仪 MF2

发布时间:2024-04-19    点击量:79

微电极拉制仪(Microforge)拉制出的电极,电极的尖端往往不是很光滑。为了能与细胞膜间形成稳定可靠的封接,一般拉制出的微电极需要对其尖端进行抛光处理,尤其是进行单通道记录时的微电极更需要进行抛光,此时需要使用抛光仪。单通道记录中还需要在微电极尖端涂上疏水性硅酮树脂(Sylgard)以减小跨壁电容(Transmural capacitance)带来的噪声,此时要注意先涂 Sylgard 后抛,MF2 通过切割,火抛光,弯曲和形成需要实验的尖峰的微细加工来制造各种电极尖端。

《主要应用》

主要用于微电极拉制仪拉出的电极进行细致的抛光处理,以保证高阻封接的质量,同时还可使封接保持长时间的稳定。

《主要特点》:

1,移动范围: 加热操作器移动距离: X 轴 14mm, Y 轴 14mm, Z 轴 14mm,

2,电极操作器移动距离:Y 轴 12mm, Z 轴 28mm

3,显微镜:Y 轴(粗/细同轴旋钮)30mm;X 轴(微调控制旋钮)约 5 度; Z

轴(倾斜精细控制旋钮)约 3°

4,玻璃毛细管:ø1mm(标配),(ø1.2mm,ø1.5mm 单独订购)

5,消耗功率:13W

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